Полный текст
#импортозамещениеЕще раз о работах по российскому рентгеновскому литографуНапомню, что в ИФМ РАН был разработан проект (дорожная карта) создания высокопроизводительного EUV-литографа на длину волны 11,2 нанометра с технологическими нормами 28 нанометров и ниже, вплоть до единиц нанометров, с рядом новаций по сравнению с EUV-литографом компании ASMLЭтапы работ по нему я уже описывал в своей указанной выше статьеРеализация проекта должна привести к созданию в России передового литографического оборудования, позволяющего в короткие сроки решить проблему выпуска современных высокопроизводительных чипов и имеющего, кроме всего прочего, значительный экспортный потенциалВ ГК «Росатом» в ходе обсуждений работ по EUV-литографу неоднократно отмечалась коммерческая выгода проекта и перспективность выхода промышленных литографов, произведенных в России, на международный рынокБлагодаря ряду инновационных решений ожидается заметное уменьшение стоимости литографа при сохранении основных технических характеристик на уровне ASML@imaxairu Подписаться