Полный текст
#микронМикрон аттестовал к применению в серийном производстве новую суспензию отечественного производства для химико-механической полировки (ХМП)Материал успешно прошел испытания и соответствует всем требованиям сверхчистого микроэлектронного производстваСуспензия, состоящая из частиц SiO2 размером 10-100 нм и химического реактива, применяется в процессе химико-механической полировки для выравнивания поверхности межуровневого диэлектрика, позволяет формировать надежные электрические соединения в системах с многоуровневой металлизациейБыстродействие и степень интеграции ИС и полупроводниковых приборов в значительной степени зависит именно от качества межкомпонентных соединений. Данная суспензия используется на производственных линиях 180 и 90 нмРабота по импортозамещению материалов является сейчас одним из важных приоритетов для предприятия и отрасли в целом. Сегодня 26 компонентов, применяемых в производстве, уже успешно аттестованы и замещены, и 28 находятся в разработке. Предприятие готово полностью перейти на использование отечественных сверхчистых материалов в техпроцессах, ведем интенсивную проработку на постоянной основе и приглашаем к сотрудничеству всех заинтересованных производителей- отметила Гульнара Хасьянова, генеральный директор АО «Микрон»@imaxairu Подписаться